

| 泰勒霍普森白光干涉儀CCI信息 |
| 點擊次數:88 更新時間:2026-01-13 |
CCI HD:適配制造與研究領域的高精度膜厚測量方案CCI HD 是非接觸式光學 3D 輪廓儀,具備精準測量薄膜與厚膜的核心能力。其采用關聯算法,可精準定位由精密光學掃描裝置生成的干涉圖相干峰與相位;整合非接觸式尺寸測量技術與優異的厚薄膜測量方案,除提供尺寸、粗糙度測量功能外,還可實現兩種類型的膜厚測量。 近年來,厚膜分析已廣泛應用于厚度約 1.5 微米的半透明涂料研究,實際測量厚度上限取決于材料折射率與標的物數值孔徑(NA)。相對而言,薄涂層測量難度更高,而通過干涉測量法,現已可實現厚度低至 50 納米的薄涂層研究(測量上限同樣取決于材料折射率)。借助該新型測量方法,可在單次測量中同步獲取膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷及薄涂層表面剝離等關鍵特性參數。 泰勒·霍普森 CCI HD 非接觸式白光干涉輪廓儀核心優勢參數:
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